多功能磁控溅射仪技术参数

腔体尺寸:Ø300mm,400mm高；

泵体:260l/sTurbo泵,含有泵前过滤膜；

蒸发方式:用户可选择热蒸发(boatevaporationorcrucible),电子束蒸发或溅射蒸发；

样品夹具:多类型,有rotation,heating,cooling,biasing；

样品尺寸可到Ø250mm,或者多个小样品；

设备大小:一般495X555X1302毫米；

多功能磁控溅射仪主要特点

此系统包含大多数的真空薄膜镀层技术:热蒸发(boatevaporationorcrucible)，电子束蒸发，溅射沉积。

这样我们在一台设备上可以灵活运用多种膜生长技术,针对各种不同大小和形状的样品,非常方便切换沉积模式。

腔体的开放式设计,使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门,可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构,面对多种材料增加或改变沉积方式,转换起来非常方便,并没有任何空间限制。

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此系统为模块式设计,可以针对用户的具体应用来订制设计结构。

仪器介绍

在所有的小型高真空镀膜设备中,此设备功能强大,性能价格比非常好。

镀膜方式包含了热蒸发,电子束蒸发和磁控溅射沉积。

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