全部产品
进店逛逛产品描述
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.
离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr
离子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数：
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:
|
portant;">
离子源型号 |
portant;">
RFICP 220 |
|
portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
|
portant;">
离子束流 |
portant;">
>800 mA |
|
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
|
portant;">
栅极直径 |
portant;">
20 cm Φ |
|
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
portant;">
流量 |
portant;">
10-40 sccm |
|
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
|
portant;">
长度 |
portant;">
30 cm |
|
portant;">
直径 |
portant;">
41 cm |
|
portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
1. 预清洗
2. 表面改性
3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4. 溅镀和蒸发镀膜 PC
5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6. 离子蚀刻 IBE
